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IC解密韩国企业发力EUV光刻技术
   以三星为代表的韩国企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。根据对韩国知识产权局(KIPO)过去十年(2011-2020)的 EUV 相关专利统计,在 2014 年达到 88 项的顶峰,2018 年为 55 项,2019 年为 50 项。

IC解密韩国企业在 EUV 光刻技术上一直在不断缩小与国际领先企业之间的差距。在韩国知识产权局 2019 年收录的 50 项专利中,其中 40 项是由韩国人提交的,只有 10 项是外国人提交的。这也是韩国人提交的专利首次超过外国人。到 2020 年,韩国提交的申请也将是外国人申请的两倍以上。

芯芯.jpg

EUV 光刻技术整合到多种先进技术,IC解密包括多层反射镜、多层膜、防护膜、光源等等。在过去十年里,包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发,以确保技术领先。最近,代工公司开始使用5nm制程的EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器(AP)。

如果按照公司划分,前IC解密六家公司占到总专利申请量的 59%。其中卡尔蔡司(德国)占18%,三星电子(韩国)占15%,ASML(荷兰)占11%,S&S Tech(韩国)占8%,台积电(中国台湾)为6%,SK海力士(韩国)为1%。

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