芯片解密日本三菱电机宣布了一项重大合作成果：与日本国家自然科学院的物理化学研究所（RIKEN）及分子科学研究所（IMS）携手，成功研发出一款高性能的短脉冲（亚纳秒级）深紫外（DUV）激光系统。

据介绍，该系统输出的脉冲能量高达235毫焦耳，位居全球之首。这一紧凑且便携的激光系统，已被部署于日本IMS内的RIKEN专用研究区域，专用于加速器的研发工作。

该系统采用微芯片激光器产生极短的脉冲，实现亚纳秒级的脉冲宽度，并通过优化光束直径，确保了高能量的输出。同时，RIKEN与IMS合作研发的分布式表面冷却技术，使得高散热能力的芯片能够在室温下稳定运行焦耳级激光器，无需传统高功率激光器所需的低温冷却环境。

展望未来，芯片解密三菱电机将继续致力于激光加速技术的推进以及激光系统的小型化，以期在多个技术领域推动创新。

值得注意的是，亚纳秒脉冲是指在极短时间内（小于1纳秒，即十亿分之一秒）释放能量的电磁波或光脉冲。通过缩短脉冲的持续时间，即使在总能量不变的情况下，也能显著提升峰值功率，这一特性使得亚纳秒脉冲在激光加工等领域具有极高的应用价值。