不管大家承认不承认，虽然ASML是荷兰的，但其实它更像是美国的，因为它听美国的话，美国让它不卖给谁，它不敢不听。

所以ASML的EUV光刻机，不卖给中国、俄罗斯等国家，后来连浸润式DUV光刻机，也进行了限制，不能随便卖，需要许可证。

而光刻机，芯片解密是当前芯片制造中最重要的设备，所以通过控制光刻机，美国实现了对全球芯片产业的控制，光刻机就是美国控制全球芯片产业的工具。

比如美国想支持英特尔、台积电、三星的发展，就允许这三家厂商从ASML大量购买EUV光刻机，想限制谁的发展，就不准ASML卖EUV光刻机给谁。

但是，从现在的情况来看，这个工具会慢慢的失效了，恐难再成为美国控制全球芯片产业的工具了。

一方面是ASML的光刻机，陷入发展困境了。

随着芯片技术越来越先进，ASML的EUV光刻机，也是越来越先进，越来越贵。但其实ASML的EUV光刻机，现在提升是越来越困难了。

各种技术的挖掘，都差不多到物理极限了，能够提升分辨率的因素，都难有提升，所以新款越来越难推出了，价格也越来越贵，让人没法接受了。

二是中国的光刻机有了突破。

这个估计大家都清楚了，我们之前已经曝光了DUV光刻机，离浸润式DUV已经是只差最后一步了，一旦突破了浸润式DUV光刻机，美国就控制不住了，因为浸润式DUV，最高也能够制造7nm，甚至5nm的芯片的。

那么管制ASML的光刻机，又有什么意义呢？只会让ASML的业绩难看而已。

三是各种各样的新技术出现，光刻机有被取代的风险

佳能推出了NIL纳米压印技术，不需EUV，也能制造5nm芯片了，还有电子束光刻技术，DSA自生长技术，芯片解密目前这些技术，都在突破的临界点。

一旦这些技术突破，那EUV光刻机也不那么重要了，大家有了更多的选择，难道美国可以将所有的这些技术都禁了么？应该还是做不到吧。

再加上新的封装技术出现，以及Chiplet小芯粒技术，还有光电芯片、碳基芯片等的出现，让芯片的性能，不再只有先进工艺这一条路可走，有了更多办法，在不利用先进光刻机的情况下，也能提高性能。

所以说，ASML的光刻机，芯片解密恐怕是越来越难以成为美国控制全球芯片产业的工具了，而这也是我们，甚至是全球想看到的希望，毕竟大家都希望半导体贸易自由化，而不是在美国的掌握之下。

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